如图甲所示,一个竖直圆柱体,圆柱体的高为H,底面半径为R,O和
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是圆柱体上下两个圆面的圆心。圆柱体所在的空间内存在竖直向下的匀强磁场。后侧矩形面abcd有一个粒子面发射源,其中ab与cd边的长度均为1.6R(过O作ab的垂线与ab的交点恰为ab的中点),整个面都能向圆柱体发射的某种正粒子,其比荷为K、粒子的速度大小均为v
0且速度方向与矩形面abcd垂直。在圆柱体的右侧到OO'的距离为2.6R处放置一个足够大的金属板,整个金属板内侧有和金属板垂直的匀强电场,匀强电场局限在离金属板的距离为R的范围内。如图乙是图甲的俯视图,图中ab边射出的粒子经圆形磁场偏转后都从圆上的某一点D(未画出)射出,从粒子源a处射出的粒子经过D点射出磁场后,经真空室再经匀强电场最后打到金属板上,且粒子垂直于金属板的分速度大小为0.8v
0 , 不计粒子重力,整个装置放在真空室中,sin53°= 0.8,cos53°=0.6.求:
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