2012年5月，日本科学家开发出制作单层硅分子薄膜技术，如图所示。在硅板表面覆盖陶瓷薄层，持续加热一段时间后，硅板中的硅分子居然能穿透陶瓷薄层从而形成单层硅分子薄膜。加热使得硅分子穿透陶瓷薄层，这说明：

①；

②。