单晶硅是信息产业中重要的基础材料．通常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅（含铁、铝、硫、磷等杂质），粗硅与氯气反应生成四氯化硅（反应温度450﹣500℃），四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅．以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图．

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a．四氯化硅遇水极易水解；

b．铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物；

c．有关物质的物理常数见下表：

物质	SiCl4	AlCl3	FeCl3	PCl5
沸点/℃	57.7	﹣	315	﹣
熔点/℃	﹣70.0	﹣	﹣	﹣
升华温度/℃	﹣	180	300	162

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