光刻胶是制造芯片、集成电路的关键材料。一种新型的光刻胶(高聚物)可由芳香化合物a、化合物b(b中氢的化学环境均相同)为原料制备，其合成路线如图：

已知：a、c均能与NaHCO₃反应放出CO₂。

下列说法错误的是（ ）

A、b的结构简式为CH₃COCH₃

B、c发生消去反应时的产物只有1种

C、d、e均能发生水解反应

D、反应③为加成聚合反应