为打破国外芯片垄断，我国正努力发展相关产业。在芯片光刻前需涂抹一层光刻胶，下图是制备某酯类光刻胶的合成路线。

已知：①酚羟基与羧基难发生酯化反应

②R₁C≡CH+R₂COOH→

③R₁CHO+R₂CH（COOH）₂

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