光刻胶是半导体光刻工艺的核心材料，2020年12月我国自主研发的第一支ArF光刻胶通过产品验证，打破了国外垄断。从A合成某酯类光刻胶I的一种合成路线如图所示，其中 代表的是330弱碱性环氧系阴离子交换树脂。回答下列问题：

已知：①RCH₂CHO+HCHO+R′NHR″→ +H₂O

②RCOCl+R′OH→RCOOR′+HCl