试题详情
光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一，其合成路线如下(部分试剂和产物已略去)：
已知：I. 
+ 
+H2O(R1 ， R2为烃基或氢)
II. 
+R2OH
+HCl(R1 ， R2为烃基)
已知：I. +
+H2O(R1 ， R2为烃基或氢)
II. +R2OH
+HCl(R1 ， R2为烃基)