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单晶硅是信息产业中重要的基础材料,通常用碳在高温还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质),粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450~500℃),四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅,以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。

相关信息如下:

a.四氯化硅遇水极易反应;

b.硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物;

c.有关物质的物理常数见下表:

物质

SiCl4

BCl3

AlCl3

FeCl3

PCl5

沸点/℃

57.7

12.8

315

熔点/℃

−70.0

−107.2

升华温度/℃

180

300

162

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