高纯CO可用于半导体领域某些芯片的刻蚀，利用甲酸(HCOOH)制取高纯CO的主要流程如下：

注：甲酸易挥发，溶于水后部分解离为HCOO^-和H⁺ ， 受热时易分解。

下列说法正确的是（   ）

A、“热解”时反应方程式为

B、“洗涤”时可用如图所示装置

C、“洗涤”后所得溶液中一定含有HCOONa

D、“干燥”时可用消石灰作干燥剂