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在芯片制造过程中,离子注入是其中一道重要的工序。离子注入工作原理的示意图如图所示。静止于A处的离子,经电压为
的加速电场加速后,沿图中半径为
的虚线通过
圆弧形静电分析器(静电分析器通道内有均匀辐向分布的电场)后,从
点沿直径
方向进入半径也为
的圆柱形、方向垂直于纸面向外的匀强磁场区域,离子经磁场偏转,最后打在竖直放置的硅片上的M 点(图中未画出)时,其速度方向与硅片所成锐角为60
°
。已知离子的质量为
, 电荷量为
, 不计重力。求:
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采纳过本试题的试卷
贵州省贵阳市某校2023届某校高三上学期物理开学考试卷
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