试题详情
工业制硅第二步反应为SiHCl3+H2
Si+3HCl，下列说法错误的是（ ）
- A、SiHCl3中的Si呈+4价，分子空间结构为四面体形
- B、该反应中SiHCl3既是氧化剂又是还原剂
- C、该反应说明在该温度下氢气的还原性强于硅单质
- D、当1 mol H2完全反应时，该反应转移2 mol电子
知识点
参考答案