氮化铝广泛应用于集成电路生产领域，合成氮化铝的常见方法有：

方法①：金属直接氮化法：2Al+N₂2AlN或者2Al+3NH32AlN+3H₂；

方法②：氧化物还原氮化法：Al₂O₃+3C+N₂2AlN+3CO；

方法③：化学气相沉积法等。