高纯度HF刻蚀芯片的反应为：4HF+Si=SiF₄↑+2H₂O。下列有关说法正确的是（   ）

A、(HF)₂的结构式：H—F—F—H

B、H₂O的比例模型：

C、Si原子的结构示意图：

D、SiF₄的电子式：