光刻技术是现代半导体集成电路的关键一环，其工作原理如图所示。光源发出强紫外光，调整镂空掩膜版和缩图透镜之间的距离，使光通过二者后，恰好能在硅片上成清晰的像，从而实现纳米级集成电路的“雕刻”，下列说法错误的是（　　）

A、缩图透镜是凸透镜

B、在硅片上形成的像是实像

C、此成像原理与显微镜物镜的成像原理相似

D、若将掩膜版靠近缩图透镜，为成清晰像，应将硅片远离缩图透镜