我国某企业正在全力研发“浸没式光刻”光刻机。原理是一种通过在光刻胶和投影物镜之间加入浸没液体，从而减小曝光波长，提高分辨率的技术，如图所示。若浸没液体的折射率为1.5，当不加液体时光刻胶的曝光波长为199 nm，则加上液体后，该曝光光波（　　）

A、在液体中的传播频率变为原来的

B、在液体中的传播速度变为原来的1.5倍

C、在液体中的曝光波长约为133nm

D、传播相等的距离，在液体中所需的时间变为原来的