中国芯片蚀刻技术国 际领先。用NF₃蚀刻硅芯片，产物均为气体，在蚀刻物表面不留任何 残留物。该反应微观过程如图所示，下列说法正确的是

A、物质丙由硅原子和氟原子直接构成

B、物质丁在空气中含量很少

C、该反应中，分子种类没有变化

D、反应生成的丙和丁分子个数之比为3：2