芯片主要以高纯度的单质硅（Si）为原料制成，在半导体硅元件生产中，常用氢氟酸（HF）来清除硅表面的氧化膜，反应原理可表示为SiO2+6HF===H2SiF6+2X，已知硅元素显+4 价。下列说法错误的是（ ）

A、生成物X的化学式是H2O

B、H2SiF6中氟元素显-1价

C、该反应是复分解反应

D、地壳中硅元素含量仅次于氧元素