光刻是半导体器件制造工艺中的重要步骤，原理可以简化为如图所示，光源发出强紫外光穿过镂空掩膜版，调整镂空掩膜版和缩图透镜之间的距离，镂空掩膜版恰好能在硅片上成清晰的像，实现纳米级集成电路的“雕刻”，关于光刻工艺，下列说法正确的是（   ）