光刻技术是现代纳米级电路的基石，它是指利用透镜将绘制在掩膜上的电路通过紫外光投射到涂有光刻胶的硅片上，从而制造出集成电路的方法。其工作原理如图所示，此时恰好在硅片上成清晰的像。下列说法不正确的是（　　）

A、在硅片上形成的像是实像    

B、缩图透镜对光有发散作用    

C、硅片位于缩图透镜的一倍焦距和二倍焦距之间

D、此投射原理与照相机的原理相同