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芯片是电子设备的心脏和大脑。光刻机是制造芯片的核心装备。某种光刻机的原理如图所示。其工作原理是先在硅片表面涂一层光刻胶, 再用光源光束透过事先设计好集成电路图的镂空掩膜,经过凸透镜照射下面的硅片,被光线照射到的光刻胶发生反应,硅片上就会出现相应的电路图案。某款光刻机选用凸透镜的焦距为f,会使硅片上最终出现清晰缩小的电路图案,则镂空掩膜和凸透镜间的距离u与f的关系需满足(    )

A、2f>u>f
B、u<f
C、u>2f
D、u=2f
知识点
参考答案
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