试题详情
近几年，深圳实行“一芯两核多支点”发展战略，通过科技创新打造“湾东智芯”。三氟化氮(NF3) 是一种优良的等离子蚀刻气体，用NF3蚀刻硅芯片时的产物均为气体，在芯片表面没有任何残留物。该反应的微观示意图如下，下列有关说法正确的是（ ）
- A、该反应四种物质中只有一种单质
- B、该反应前后原子数目发生了改变
- C、反应物甲与乙粒子个数比为4：3
- D、物质丙与丁质量比为26：7
知识点
参考答案
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