NF₃是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体，在空气中性质稳定。其中N—F键能为283 kJ·mol ， 测得断裂氮气、氟气中的化学键所需的能量如图：

下列说法错误的是（ ）

A、相同条件下，N₂化学性质比F₂更稳定

B、氮气和氟气的能量总和比NF₃低

C、N₂（g）+3F₂（g）⇌2NF₃（g） ∆H=-287.6kJ·mol^-1

D、NF₃在大气中性质比较稳定，不易发生化学反应