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光刻机是一种用于制造集成电路的重要设备,它可以利用紫外线将光掩模上的图形成像到感光材料上,形成所需的电路或结构。沉浸式光刻技术将镜头与光刻胶之间的空气介质换成浸没液体可以提高成像的分辨率。若加入浸没液体,某紫外线进入液体后,在该液体中的波长变为120nm,是在真空中波长的
, 则( )
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