半导体生产中常需要控制掺杂,以保证控制电阻率.三氯化磷(PCl
3)是一种重要的掺杂剂.实验室要用黄磷(即白磷)与干燥的Cl
2模拟工业生产制取PCl
3 , 装置如图所示:(部分夹持装置略去)
已知黄磷与少量Cl2反应生成PCl3 , 与过量Cl2反应生成PCl5 PCl3遇水会强烈水解生 成 H3PO3和HCl.遇O2会生成POCl3 , POCl3溶于PCl3 , PCl3、POCl3的熔沸点见下表:
物质 | 熔点/℃ | 沸点/℃ |
PCl3 | ﹣112 | 75.5 |
POCl3 | 2 | 105.3 |
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