半导体生产中常需要控制掺杂，以保证控制电阻率，三氯化磷（PCl₃）中一种重要的掺杂剂．实验室要用黄磷（白磷）与干燥的Cl₂模拟工业生产制取PCl₃ ， 装置如下图所示：（部分夹持装置略去）

已知黄磷与少量Cl₂反应生成PCl₃ ， 与过量Cl₂反应生成PCl₅和HCl，遇O₂会生成POCl₃ ， POCl₃溶于PCl₃ ， PCl₃、POCl₃的熔沸点见下表：

物质	熔点/℃	沸点/℃
PCl3	﹣112	75.5
PCl5	2	105.3

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