锗是重要的半导体材料，应用于航空航天测控、光纤通讯等领域．一种提纯二氧化锗粗品（主要含GeO₂、As₂O₃）的工艺如下：

已知：①“碱浸”过程中的反应为：

GeO₂+2NaOH═Na₂GeO₃+H₂O

As₂O₃+2NaOH═2NaAsO₂+H₂O

②“蒸馏”过程中的反应为：Na₂GeO₃+6HCl═2NaCl+GeCl₄+3H₂O

③GeCl₄的熔点为﹣49.5℃，AsCl₃与GeCl₄的沸点分别为130.2℃、84℃．