高聚物Ⅰ可用于光刻工艺中，作抗腐蚀涂层。图为高聚物Ⅰ的一种合成路线已知：①；RCHO+R1CH2COOH +H2【参考答案】

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高聚物Ⅰ可用于光刻工艺中，作抗腐蚀涂层。图为高聚物Ⅰ的一种合成路线

已知：①；RCHO+R₁CH₂COOH $\text{[math]}$ +H₂O

②由B生成C的反应属于加聚反应；

③D属于高分子化合物。

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湖南省怀化市2021年高考化学一模试卷

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