单晶硅是信息产业中重要的基础材料，通常用碳在高温还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质)，粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450~500℃)，四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅，以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。

相关信息如下：

a．四氯化硅遇水极易反应；

b．硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物；

c．有关物质的物理常数见下表：

物质	SiCl4	BCl3	AlCl3	FeCl3	PCl5
沸点/℃	57.7	12.8	—	315	—
熔点/℃	−70.0	−107.2	—	—	—
升华温度/℃	—	—	180	300	162

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