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Ag催化刻蚀Si晶片的反应原理示意图如下,刻蚀溶液有一定浓度的HF和H2O2混合而成,刻蚀时间为 , 由Ag薄膜覆盖的硅晶片部分逐渐被刻蚀掉,剩余部分就形成了硅纳米线。下列说法错误的是(   )

A、Ag薄膜附近随着反应的进行,pH逐渐减小
B、Si极发生的反应为
C、该刻蚀的总反应可表示为
D、该刻蚀过程的是由微小的Si、Ag、HF和H2O2的原电池组成
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