以粗硅(含铁、铝等杂质)为原料，工业上有以下两种制备高纯硅的工艺。已知：SiCl₄沸点57.7℃，遇水强烈水解；SiHCl₃沸点31.5℃，且能与H₂O强烈反应，并在空气中易自燃。