光刻胶是制造芯片、集成电路的关键材料。某新型的光刻胶(高分子化合物e)，可以由芳香族化合物a、有机物b(丙酮)为原料制备，其合成路线如下：

其中a、c均含有－COOH。下列说法错误的是（   ）

A、反应①为加成反应

B、有机物c脱水成烯的产物可能有2种

C、反应②为酯化

D、反应③为缩聚反应