芯片主要以高纯度的单质硅(Si)为原料制成，在半导体硅元件生产中，常用氢氟酸(HF) 来清除硅表面的氧化膜，反应原理可表示为SiO₂+6HF=H₂SiF₆+2X。已知硅元素在反应前后化合价不变。下列说法错误的是（ ）

A、生成物X属于非金属氧化物

B、单质硅是半导体材料，也属于非金属单质

C、单质硅表面氧化膜的形成属于氧化反应

D、氢氟酸与硅表面的氧化膜的反应属于置换反应