芯片制造过程需用到光刻胶，光刻胶的一种合成路线如图(部分试剂、反应条件和产物已略去)：

已知：A是苯甲醛()

I. +   (R₁ ， R₂为烃基或氢)

II. +R₂OH +HCl(R₁ ， R₂为烃基)