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三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF3＋5H2O=2NO＋HNO3＋9HF。下列有关该反应的说法错误的是（ ）
- A、NF3既表现了氧化性又表现了还原性
- B、HF是还原产物
- C、还原剂和氧化剂的物质的量之比是1∶2
- D、3 mol NF3参加反应转移电子2 mol
知识点
参考答案
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