磁控溅射仪是制备金属薄膜的重要设备．为了研究磁控溅射仪中离子在电场和磁场中的运动过程，建立如下模型．如图所示，平【参考答案】

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磁控溅射仪是制备金属薄膜的重要设备．为了研究磁控溅射仪中离子在电场和磁场中的运动过程，建立如下模型．如图所示， $\text{[math]}$ 平面内 $\text{[math]}$ 的位置有一离子源发射大量质量为m、电荷量为 $\text{[math]}$ 的离子，离子的初始速度大小均为 $\text{[math]}$ ，方向在 $\text{[math]}$ 平面内并与x轴正方向的夹角在 $\text{[math]}$ 至 $\text{[math]}$ 范围内．在 $\text{[math]}$ 的区域内有一沿x轴正方向的匀强电场，在 $\text{[math]}$ 的区域内有一垂直 $\text{[math]}$ 平面向里的匀强磁场，磁场沿y轴方向的宽度为 $\text{[math]}$ ，且关于x轴对称．在 $\text{[math]}$ 的位置放一沿轴y方向的无限长绝缘薄平板，所有离子经电场加速后到达绝缘薄平板时速度大小均为 $\text{[math]}$ ．忽略离子的重力以及离子间的相互作用．

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