中国芯片蚀刻技术国际领先。用NF₃进行硅芯片蚀刻时的产物均为气体，在蚀刻物表面不留任何残留物。该反应微观示意图如图，下列说法正确的是（ ）

    

A、甲、丙、丁均为化合物

B、反应前后各元素的化合价均不变

C、该反应不是置换反应

D、反应生成的丙和丁微粒数之比为3：2