下列关于无机物应用的叙述正确的是（）【参考答案】

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下列关于无机物应用的叙述正确的是（）

A、 $\text{[math]}$ 湿法脱除烟气中的NO，是利用 $\text{[math]}$ 的氧化性

B、半导体工业中可用氢氟酸除去硅片表面的 $\text{[math]}$ 层，是因为HF具有强酸性

C、 $\text{[math]}$ 法利用 $\text{[math]}$ 溶液脱除烟气中的 $\text{[math]}$ ，是利用 $\text{[math]}$ 溶液呈酸性

D、用氨水除去铜器表面的 $\text{[math]}$ 转化为 $\text{[math]}$ ，是利用 $\text{[math]}$ 的还原性

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