目前，我国高端芯片制造领域被以美国为首的西方国家“卡脖子”，特别是EUV光刻机禁止向中国出售。“中国当自强”，光刻机运用了光刻技术，光刻技术是利用缩图透镜将绘制在掩膜上的电路图通过光源投射到涂有光刻胶的硅片上，从而制造出集成电路的方法，其工作原理如图所示。若图示中掩膜上的电路图恰好在硅片上成清晰缩小的像，下列说法正确的是（ ）

A、硅片位于缩图透镜的一倍焦距以内

B、掩膜位于缩图透镜的一倍焦距以内

C、掩膜上的电路图在硅片上成的像是实像

D、要减小硅片上的像，需将掩膜向下移动