光刻技术的工作原理如图所示，用紫外光照射镂空掩膜，这样镂空掩膜会更明亮，调整镂空掩膜、缩图透镜的位置，恰好能使镂空掩膜缩小的像成在硅片，从而实现集成电路的“光刻”，下列说法正确的是（ ）

A、硅片相当于光屏

B、镂空掩膜位于缩图透镜的二倍焦距以内

C、镂空掩膜的像是倒立放大的实像

D、缩图透镜相当于凸透镜，凸透镜可以用于矫正近视眼