中国芯片蚀刻技术国际领先。NF₃(F元素化合价为-1)进行硅芯片蚀刻时的产物均为气体，在蚀刻物表面不留任何残留物。该反应微观示意图如图，下列说法正确的是（  ）

A、物质乙由分子构成

B、反应前后氮元素的化合价降低了

C、空气中物质丁的质量分数为78%

D、反应生成的丙和丁微粒数之比为1：1