湾区之心，“芯”兴向荣向世界。三氟化氮(NF₃)是优良的等离子蚀刻气体，用NF₃蚀刻硅芯片时的产物均为气体。该反应的微观示意图如下，下列有关说法不正确的是（  ）

A、该反应前后原子数目没有改变

B、该反应中只有一种单质

C、反应物甲与乙粒子个数比为4∶3

D、丁是空气中含量最多的物质