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光刻技术是利用缩图透镜将绘制在掩膜上的电路图通过光源投射到涂有光刻胶的硅片上,从而制造出集成电路的方法,其工作原理如图所示。若图示中掩膜上的电路图恰好在硅片上成清晰缩小的像,下列说法正确的是

A、缩图透镜相当于一个凹透镜
B、掩膜上的电路图在硅片上成实像
C、掩膜位于缩图透镜的一倍焦距和二倍焦距之间
D、要使硅片上的像变大,需将掩膜向上移动
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