哈工大宣布突破EUV光刻机关键技术。光刻技术是利用缩图透镜将绘制在掩膜上的电路图通过光源投射到涂有光刻胶的硅片上，从而制造出集成电路的方法，其工作原理如图所示。若图示中掩膜上的电路图恰好在硅片上成清晰缩小的像，则该像是（填“实”或“虚”）像，要使硅片上的像缩小，掩膜需向（填“上”或“下”）移动。