2023年2月哈工大宣布突破EUV光刻机关键技术，光刻技术是利用缩图透镜将绘制在掩膜上的电路图通过光源投射到涂有光刻胶的硅片上，从而制造出集成电路的方法，下列说法正确的是（　　）

A、电路图在硅片上成的像是虚像

B、掩膜位于缩图透镜的二倍焦距以外

C、硅片位于缩图透镜一倍焦距以内

D、要减小硅片上的像，掩膜需向下移动