芯片制作工艺是人类科技的结晶,而制造芯片的光刻机,是通过许多国家的顶级公司通力合作制造的精密的大型设备.如图所示,芯片制作工艺中有一种粒子分析器,它由加速电场、静电分析器和磁分析器组成,加速电场的电压为
U , 静电分析器通道中心线的半径为
R , 通道内均匀辐射电场在中心线处的电场强度大小为
E , 磁分析器有范围足够大的有界匀强磁场,磁感应强度大小为
B、方向垂直纸面向外.氕、氘、氚核以不同的速度进入加速电场,能沿静电分析器中心线运动的粒子会从小孔
P进入磁分析器,最终打到胶片
Q上.已知氕、氘,氚核所带的电荷量均为
e , 质量分别为
m、2
m , 3
m , 不计粒子间的相互作用及粒子受到的重力,下列说法正确的是( )